250 nm 공정

반도체 소자 제조
MOSFET 스케일링 (공정 노드)
010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm – 1977  1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800 nm – 1987 600 nm – 1990 350 nm – 1993 250 nm – 1996 180 nm – 1999 130 nm – 2001 090 nm – 2003 065 nm – 2005 045 nm – 2007 032 nm – 2009 022 nm – 2012 014 nm – 2014 010 nm – 2016 007 nm – 2018 005 nm – 2020 003 nm – 2022
미래 002 nm – 2024
하프 노드 집적도 CMOS 소자 (멀티게이트) 무어의 법칙 반도체 산업 나노전자
v • d • e • h

250 nm(나노미터) 공정 또는 0.25 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 250 nm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준을 말한다.

250nm CMOS 공정은 1987년 카사이 나오키가 주도하는 일본의 NEC 연구팀에 의해 증명되었다.^[1]

• 1999년에 상업용으로 만들어진 알파 프로세서 21264A.
• 1998년 5월 28일 공개된 AMD K6-2 마이크로프로세서의 Chomper와 Chomper Extended.
• AMD K6-III 마이크로프로세서의 샤프투스.
• 1997년 8월 공개된 모바일 펜티엄 MMX 틸라무크.
• 펜티엄 II 마이크로프로세서의 데슈츠.
• 펜티엄 III 마이크로프로세서의 카트마이.
• 세가가 발매한 가정용 게임기 드림캐스트의 CPU와 GPU.
• 초창기 플레이스테이션 2의 이모션 엔진 CPU.