Fichier:Photolithography etching process.svg
Taille de cet aperçu PNG pour ce fichier SVG : 120 × 600 pixels. Autres résolutions : 48 × 240 pixels | 96 × 480 pixels | 153 × 768 pixels | 204 × 1 024 pixels | 409 × 2 048 pixels | 512 × 2 560 pixels.
Fichier d’origine (Fichier SVG, nominalement de 512 × 2 560 pixels, taille : 8 kio)
Historique du fichier
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Date et heure | Vignette | Dimensions | Utilisateur | Commentaire | |
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actuel | 17 avril 2022 à 10:27 | 512 × 2 560 (8 kio) | Djiboun | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr. | |
20 juin 2020 à 15:18 | 512 × 2 560 (5 kio) | Mega deppa | Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC) | ||
20 juin 2020 à 15:16 | 512 × 2 560 (8 kio) | Mega deppa | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja. | ||
9 octobre 2011 à 18:52 | 512 × 2 560 (5 kio) | Cmglee | Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg. | ||
1 octobre 2011 à 00:03 | 512 × 2 560 (5 kio) | Cmglee | Merge develop and remove exposed photoresist. | ||
30 septembre 2011 à 00:46 | 512 × 2 926 (5 kio) | Cmglee | Fix text alignment. | ||
30 septembre 2011 à 00:39 | 512 × 2 926 (5 kio) | Cmglee | Fix text alignment. | ||
30 septembre 2011 à 00:37 | 512 × 2 926 (5 kio) | Cmglee | Fix text alignment. | ||
30 septembre 2011 à 00:30 | 512 × 3 413 (5 kio) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date |
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